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05/23產業消息--ASML前技術長:超數值孔徑EUV正開發中
05/23產業消息--ASML前技術長:超數值孔徑EUV正開發中
113年05月23日 星期四
ASML極紫外光(EUV)微影設備,從低數值孔徑(low-NA)發展至如今高數值孔徑(hyper-NA)EUV已正式交貨客戶,而ASML未來也將會再推出高數值孔徑EUV的下一代EUV,將為「超數值孔徑」(hyper-NA)。
05/23--電子